Chalmers tekniska högskola
Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) for dielectric materials.
Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) for dielectric materials.
Chalmers Tekniska Högskola Aktiebolag, Göteborg
LPCVD system intended for deposition of thin layers of silicon nitride (SixNy) and silicon dioxide (SiO2), each in a separate process tube furnace.
Sista anbudsdag
Anbudstiden utgått
(2022-09-08)
Förfarande
Öppet
Publicerad
2022-07-20
Dokumenttyp
Meddelande om upphandling
Leveransorter
Västra Götalands län
Diarie-/referensnummer
C 2021-0678