Chalmers tekniska högskola Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) for dielectric materials.

Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) for dielectric materials.

Chalmers Tekniska Högskola Aktiebolag, Göteborg

LPCVD system intended for deposition of thin layers of silicon nitride (SixNy) and silicon dioxide (SiO2), each in a separate process tube furnace.

Sista anbudsdag
Anbudstiden utgått

(2022-09-08)

Förfarande

Öppet

Publicerad

2022-07-20

Dokumenttyp

Meddelande om upphandling

Leveransorter

Västra Götalands län

Diarie-/referensnummer

C 2021-0678